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美国Axcelis多孔质low-k膜UV固化设备
 
慧聪网   2006年2月24日10时52分   信息来源:黑龙江大庆商务之窗    

  【慧聪网丝印特印行业频道】美国Axcelis科技公司在日前举办的“SEMICON Japan 2005”展会上,展出了将从45nm工艺(hp65)开始正式导入的多孔质low-k膜用UV固化设备。由于是多孔质,因此多孔质low-k膜存在着如何确保机械强度的问题。据悉,利用该设备进行UV固化处理,能够在不破坏电气特性的情况下得到足够的机械强度。

  该公司首先面向研发领域,开发出了此次的UV固化设备“Rapid Cure 320FC”,现已面向特定用户供货。通过向多孔质low-k膜照射UV(紫外线),在破坏low-k膜材料中Si-OH及Si-H的结合的同时,还会形成Si-O键网络,从而就能使机械强度得到提高。另外,据悉剥离强度提高到了1.3~1.7倍。由于该公司是利用UV光源进行设计,并结合反射光学系统进行了优化,因此“与其他竞争对手的设备相比,照射更均匀”(Axcelis公司产品经理Kevin Durr)。另一个特点是能够支持利用CVD和镀膜等手法形成的膜。

  此次的设备除low-k膜的UV固化外,据悉还可用于清除积蓄在闪存浮动栅等部位电荷的“电荷清除”、增强采用应变硅技术形成的Si3N4膜抗拉应力的“Si3N4固化”等用途。

 
 
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[热门关键词]:UV固化 UV Axcelis 
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